C4F6是什麼氣體

全氟丁二烯(C4F6，六氟丁二烯，六氟-1，3-丁二烯)作為一種温室效應GWP極低，綠色環保的高效幹蝕刻氣體，用於半導體產品的等離子介質刻蝕，具有更快刻蝕速率、更高選擇性和更高精確性，更適合於高深寬比的蝕刻工藝。

全氟丁二烯(C4F6)是一種無色無味且不溶於水的氣體，沸點為5.9℃。 全氟丁二烯是一種含有六個氟原子和兩個碳碳雙鍵的共軛烯烴，作為一種優異的蝕刻氣體，由於其獨特的F/C比，與傳統使用的全氟飽和氟碳類蝕刻氣體相比，全氟丁二烯具有更高的蝕刻選擇性、精確性和縱橫比，可以蝕刻小於100nm 甚至更窄的電子線路。

此外，C4F6比C4F8具有更高的對光阻和氮化硅選擇比，在使用時可以提高蝕刻的穩定性，提高蝕刻速率和均勻度，從而提高產品優良率。

因成雙鍵的碳再成3元環的角張力能太大，故 C4F6 只有全氟丁炔或全氟丁二烯兩種物質的分子式符合題意，可視為丁炔或丁二烯的氫全為氟所取代的化合物，其中全氟丁炔可有2個同分異構體，全氟丁二烯則只有1種。C5F8 為全氟戊炔或全氟戊二稀，HCI為氯化氫，HF為氟化氫，PCI為氯化磷，CDA，IA，GN2，DCS等均為專業產品名(含縮寫)，建議另行查找。