光伏pvd工藝原理

pvd--物理氣相沉積，是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基底上。

它具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附着力強、繞射性好、可鍍材料廣泛等優點。