硅單晶靶材用途

1、用於顯示器上

硅單晶靶材目前被普遍應用於平面顯示器（FPD)上。近年來，平面顯示器在市場上的應用率逐年增高，同時也帶動了ITO靶材的技術與市場需求。ITO靶材有兩種，一種是採用銦錫合金靶材，另外一種是採用納米狀態的氧化銦和氧化錫粉混合後燒結。

2、用於微電子領域

靶材也被應用於半導體產業，相對來説半導體產業對於靶材濺射薄膜的品質要求是比較苛刻的。現在12英寸（300衄口）的硅晶片也被製作出來，但是互連線的寬度卻在減小。目前硅片製造商對於靶材的要求都是大尺寸、高純度、低偏析以及細晶粒等，對其品質要求比較高，這就要求靶材需要具有更好的微觀結構。

3、用於存儲技術上

儲技術行業對於靶材的需求量很大，高密度、大容量硬盤的發展，離不開大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層複合膜是如今應用比較廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展，用它製造出來的磁光盤有着使用壽命長、存儲容量大以及可反覆無接觸擦寫的特點。