幹法蝕刻用到什麼氣體

幹法蝕刻用三氯化硼，主要用於半導體器件生產所用的擴散、離子注人、幹法蝕刻等工藝。分子式： BC13 。相對分子質量： 117.1691 （按 2007 年國際相對原子質量計算）。其主要內容是工業用，注人，蝕刻，117.1691，電子，BC13，製得，三氯化硼，氣體。