多晶硅冷氫化工藝流程

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多晶硅冷氫化工藝流程

1、

硅粉和催化劑供應:一般的工業硅粉都含有一定的水分,因此在使用前都必須進行烘乾。在傳統的TCS合成工藝中,一般採用加熱N2來進行烘乾處理。但考慮到冷氫化需要使用銅基或鎳基的催化劑,為了確保催化劑活性,所以基本上採用加熱H2來對硅粉進行乾燥,並起到進一步活化的作用。乾燥後的硅粉與催化劑在硅粉中間倉內混合均勻,然後進入硅粉供應倉。為了保證硅粉的安全、持續加料,一般硅粉供應倉設置為兩個,其中一個供應倉先裝滿混合均勻的硅粉和催化劑,在使用過程中由H2加壓均勻送入氫化反應器中。另一個供應倉此時由硅粉中間倉補充硅粉和催化劑,等待下一步交替送料。在這一生產步驟中由於物料均為乾燥的粉料,因此除了需要計量配比準確外,並無大的問題。

2、

H2供應:這個生產步驟相對比較簡單,回收的H2或是來自電解的H2經過氫壓機加壓至15~30kg後進入H2緩衝罐,然後再

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