什麼是光伏ald設備
來源:魅力女性吧 3.07W
是一種特殊的真空薄膜沉積方法,具有較高的技術壁壘。
通過ALD 鍍膜設備可以將物質以單原子層的形式一層一層沉積在基底表面,每鍍膜一次/層為一個原子層,根據原子特性,鍍膜 10 次/層約為 1nm。
讀起來可能有點拗口,用圖例可能會看得更清晰一點。
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通過ALD 鍍膜設備可以將物質以單原子層的形式一層一層沉積在基底表面,每鍍膜一次/層為一個原子層,根據原子特性,鍍膜 10 次/層約為 1nm。
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