光刻製程越大越好麼

光刻製程越小越好。

工藝製程的指標是納米，表示光刻和刻蝕的精度。納米數越低，説明就可以把硅片上的晶體管做的越小。這樣，同樣面積的硅片，就可以刻出更多的晶體管。從而實現更高的性能，或者更低的功耗。