光刻機環境要求

需要超潔環境。

光刻機的環境要求是超潔環境。光刻機作為最頂級的大型精密設備，對外部環境要求非常苛刻。光刻機本身是對納米結構進行加工，而通常一粒細小的灰塵都有一百納米以上，足夠毀掉一顆芯片，所以光刻機要求超潔環境，比外部普通環境潔淨一萬倍。而且還要恆温恆濕，温度恆定在21℃。